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J-GLOBAL ID：200903042647381359

位相シフトマスク及びその製造方法

Inventor： ▲吉▼田 彰
Applicant, Patent owner： シャープ株式会社
Agent (1)： 小池 隆彌
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998250575
Publication number (International publication number)：2000081696
Application date： Sep. 04, 1998
Publication date： Mar. 21, 2000
Summary：

【要約】【課題】 すべての開口部からの透過光の光強度のばらつきを抑制し、転写パターンのサイズの均一性を向上させる位相シフトマスク及びその製造方法を提供する。【解決手段】 透明基板(1)内に位相シフト領域として凹部(11)が形成されたフォトマスクにおいて、凹部(11)の側壁を遮光膜(4a)で覆う。

Claim (excerpt)：

透明基板内に位相シフト領域として凹部が形成されたフォトマスクにおいて、凹部の側壁を遮光膜で覆うことを特徴とする位相シフトマスク。

IPC (2)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 1/08 A ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 528

F-Term (7)：

2H095BB03 ,  2H095BB16 ,  2H095BC08 ,  2H095BC28 ,  5F046AA25 ,  5F046BA04 ,  5F046BA08