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J-GLOBAL ID：200903042651343992

ネガ型フオトレジスト組成物

Inventor： 植田 裕治 ,  楠本 武宏 ,  竹山 尚幹 ,  植木 裕美
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 諸石 光▲ひろ▼ (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991066215
Publication number (International publication number)：1993005991
Application date： Mar. 29, 1991
Publication date： Jan. 14, 1993
Summary：

【要約】【目的】 高解像度、高感度、高耐熱性のパターン形成材料であるネガ型フォトレジストの組成物を提供する。【構成】 アルデヒド類と下記化合物等を縮合させてなるアルカリ可溶性樹脂、メラミン系またはベンゾグアナミン系架橋剤および酸発生剤を含有するネガ型フォトレジスト組成物。【化1】

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)で表される化合物とアルデヒド類とを縮合させて得られるアルカリ可溶性樹脂、架橋剤および酸発生剤を含有するネガ型フォトレジスト組成物。【化1】(式中、R1 〜R9 はそれぞれ独立にアルキル基、水素原子、ハロゲン原子、又は-OH基を表わし、R1 〜R9 のうち少なくとも1つは-OH基であり、該-OH基に対してo位およびp位のうち少なくとも2つは水素原子である。)

IPC (4)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/028 ,  H01L 21/027