Pat
J-GLOBAL ID:200903042659184982
ガス透過層接合体の製造方法およびガス透過層接合体を用いた部品の製造方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001386700
Publication number (International publication number):2003182018
Application date: Dec. 19, 2001
Publication date: Jul. 03, 2003
Summary:
【要約】【課題】極薄のガス透過層を用いてもハンドリング性が問題とならないような、ガス透過層接合体の製造方法およびガス透過層接合体を用いた部品の製造方法の提供。【解決手段】基体22にガス透過層28を積層してなる積層体10と、支持層26に中間層24を積層してなる支持体11とを積層してなるガス透過層接合体12であって、ガス透過層28と中間層24の接合されるそれぞれの面を活性化処理した後、活性化処理面同士が対向するように当接して重ね合わせて積層接合してガス透過層接合体12を製造する。ガス透過層接合体12より基体22を除去して支持体11にエッチング加工を施して開口接合材30を製造してガス分離膜部品を製造する。
Claim (excerpt):
基体にガス透過層を積層してなる積層体と、支持層に中間層を積層してなる支持体とを積層してなるガス透過層接合体の製造方法であって、積層体のガス透過層と支持体の中間層との接合面が、接合されるそれぞれの面を活性化処理した後、活性化処理面同士が対向するように当接して重ね合わせて積層接合することを特徴とするガス透過層接合体の製造方法。
IPC (4):
B32B 31/22
, B01D 69/12
, B01D 71/02 500
, B01J 19/08
FI (4):
B32B 31/22
, B01D 69/12
, B01D 71/02 500
, B01J 19/08 H
F-Term (45):
4D006GA41
, 4D006HA42
, 4D006MA03
, 4D006MA08
, 4D006MA09
, 4D006MA31
, 4D006MB04
, 4D006MC02X
, 4D006NA32
, 4D006NA33
, 4D006NA61
, 4D006PB66
, 4D006PC80
, 4F100AB01A
, 4F100AB01B
, 4F100AB01C
, 4F100AB04A
, 4F100AB16C
, 4F100AB24B
, 4F100AB24C
, 4F100AB31C
, 4F100AK01D
, 4F100AK49D
, 4F100BA04
, 4F100BA10A
, 4F100BA10D
, 4F100EC012
, 4F100EH66B
, 4F100EH66C
, 4F100EJ153
, 4F100EJ202
, 4F100EJ333
, 4F100EJ611
, 4F100EJ641
, 4F100JD02C
, 4G075AA24
, 4G075BC02
, 4G075BC06
, 4G075CA16
, 4G075CA47
, 4G075CA62
, 4G075EB31
, 4G075EB41
, 4G075EC21
, 4G075ED04
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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水素ガス分離ユニット及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-099880
Applicant:東洋鋼鈑株式会社, 東京瓦斯株式会社
-
水素分離膜及びその製作方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-105677
Applicant:三菱重工業株式会社
-
水素分離膜およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-131420
Applicant:住友金属工業株式会社, 三菱化工機株式会社
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