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J-GLOBAL ID：200903042660699694

レジスト塗布液用基剤、その調製方法及びそれを用いたネガ型レジスト組成物

Inventor： 石川 清 ,  大森 克実 ,  佐藤 充 ,  井口 悦子 ,  金子 文武 ,  中山 寿昌
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (1)： 阿形 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995295571
Publication number (International publication number)：1997138503
Application date： Nov. 14, 1995
Publication date： May. 27, 1997
Summary：

【要約】【課題】 感度及びレジストパターン形状に優れ、かつそれらの経時的劣化が少ない化学増幅型のネガ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 フェノール性水酸基含有アルカリ可溶性樹脂やその水酸基の一部が酸に対して不活性な置換基で保護されてアルカリ不溶性とした樹脂とその樹脂成分に基づき1〜20重量%の第三級アミンとの加熱処理物を含む有機溶剤溶液から成るレジスト塗布液用基剤、並びに(A)前記レジスト塗布液用基剤、(B)放射線の照射により酸を発生する化合物及び(C)架橋剤を含有するネガ型レジスト組成物である。

Claim (excerpt)：

フェノール性水酸基含有アルカリ可溶性樹脂及びその水酸基の一部を酸に対して不活性な置換基で保護してアルカリ不溶性とした樹脂の中から選ばれた少なくとも1種の樹脂成分と、その樹脂成分に基づき1〜20重量%の第三級アミンとの加熱処理物を含む有機溶剤溶液から成るレジスト塗布液用基剤。

IPC (3)：

G03F 7/038 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/038 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/30 502 R