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J-GLOBAL ID：200903042686388123

硬度/シリカ系スケールの除去剤

Inventor： 中島 純一 ,  山下 正純 ,  木村 健一
Applicant, Patent owner： 三浦工業株式会社
Agent (1)： 福島 三雄 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001078329
Publication number (International publication number)：2001314893
Application date： May. 29, 1996
Publication date： Nov. 13, 2001
Summary：

【要約】【課題】 ボイラを運転しながらスケールを除去することができ、かつ安全性が高く、ボイラを腐食させず、適度なスケール除去速度を有するスケール除去剤を提供する。【解決手段】 EDTAやNTA等のキレート剤と、ポリマレイン酸やビス(ポリ-2-カルボキシエチル)ホスフィン酸等の分散剤とを含有するスケール除去剤である。

Claim (excerpt)：

エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム(EDTA)、ポリアルキレンポリアミン、ビピリジン、グリシン、アセチルアセトン、ニトリロ三酢酸(NTA)、アミノトリ(メチルホスホン酸)、アミノトリ(メチルホスホン酸)五ナトリウム塩、又は1-ヒドロキシ-1,1-ジホスホン酸であるキレート剤と、ポリマレイン酸、2-ホスホノブタン-1,2,4-トリカルボン酸(PBTC)、ビス(ポリ-2-カルボキシエチル)ホスフィン酸、1-ヒドロキシエチリデン-1,1-ジホスホン酸、アクリル酸アクリルアミド共重合物、又はポリアクリル酸ナトリウムである分散剤とを含有する硬度/シリカ系スケールの除去剤。

IPC (10)：

C02F 5/10 610 ,  C02F 5/10 620 ,  C02F 5/10 ,  C02F 5/00 610 ,  C02F 5/00 620 ,  C02F 5/00 ,  C02F 5/12 ,  C02F 5/14 ,  C23G 5/02 ,  F22B 37/52

FI (12)：

C02F 5/10 610 Z ,  C02F 5/10 620 A ,  C02F 5/10 620 C ,  C02F 5/10 620 E ,  C02F 5/00 610 H ,  C02F 5/00 620 B ,  C02F 5/00 620 C ,  C02F 5/12 ,  C02F 5/14 B ,  C02F 5/14 C ,  C23G 5/02 ,  F22B 37/52 A