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J-GLOBAL ID：200903042697577696

支持板を有する装置並びに不動態ゲルを塗布するための方法

Inventor： クルト ヴァイブレン ,  ベルトラム ヴェスナー
Applicant, Patent owner： ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング
Agent (1)： 矢野 敏雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995031180
Publication number (International publication number)：1995263847
Application date： Feb. 20, 1995
Publication date： Oct. 13, 1995
Summary：

【要約】【目的】 構成素子を簡単に、安価にしかも迅速に不活性化することにある。【構成】 構成素子を不活性化するための装置及び方法に関し、この場合、チキソトロープゲルがリング形状で構成素子の周りに配置されていて、チキソトロープゲルによって取り囲まれた内側スペースが、不動態ゲルにより構成素子を完全に覆うまで、不動態ゲルによって充填されている。次いで、ゲルが硬化させられる。

Claim (excerpt)：

構成素子(2)が配置される支持板(1)を有する装置であって、構成素子(2)が防護層としての不動態ゲル(6)によって覆われていて、この不動態ゲル(6)が側方で流れ遮断部材によって制限されている形式のものにおいて、流れ遮断部材がチキソトロープゲル(5)を有していることを特徴とする、支持板を有する装置。

IPC (2)：

H05K 3/28 ,  H05K 7/06