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J-GLOBAL ID：200903042719230385
プラズマ装置および該装置の使用方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
河野 登夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992108709
Publication number (International publication number)：1993283196
Application date： Mar. 31, 1992
Publication date： Oct. 29, 1993
Summary：
【要約】【目的】 プラズマの放電開始が容易であって放電中には大面積に均一性が良いプラズマを生成し、しかも複数種類のプロセスに対しても各プロセスに応じた最適のプラズマを生成する。【構成】 マイクロ波を導入する導波管6とプラズマ17を生成する真空槽3との間に、その開口度が可変である絞り9を有するマイクロ波導入窓12が設けられている。放電開始時には絞り9を絞ってマイクロ波導入窓12の開口面積を小さくして放電開始を容易にし、放電開始後は絞り9を拡げてマイクロ波導入窓12の開口面積を大きくして広い面積で均一性が良いプラズマ17を生成する。また、複数種類のプロセスを連続して行なう場合、各プロセスに応じてマイクロ波導入窓12の開口面積を変化させて、各プロセスにおける最適なプラズマを生成する。
Claim (excerpt)：
真空槽と該真空槽の壁に形成された開口部と該開口部に連結されたマイクロ波導波路とを備え、前記マイクロ波導波路から前記開口部を介して導入したマイクロ波により前記真空槽内にプラズマを生成するプラズマ装置において、前記開口部の形状を変化させる手段を具備することを特徴とするプラズマ装置。
IPC (2)：
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