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J-GLOBAL ID：200903042719792766

ガス製造装置

Inventor： 岩佐 信弘
Applicant, Patent owner： 大阪瓦斯株式会社
Agent (1)： 北村 修
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993173927
Publication number (International publication number)：1995033401
Application date： Jul. 14, 1993
Publication date： Feb. 03, 1995
Summary：

【要約】【目的】 窒素ガス濃度が低く水素ガス濃度が高い高カロリーなガスを生成できるガス製造装置を提供する。【構成】 燃焼用空気を供給する空気供給手段7と、供給される炭化水素原料の一部を空気供給手段7から供給される燃焼用空気により燃焼させるとともに、その燃焼熱を用いて、炭化水素原料を熱分解させる又は水蒸気と反応させるガス生成部2とが設けられたガス製造装置において、空気供給手段7から供給される燃焼用空気中の酸素ガス濃度を高くする酸素富化手段8が設けられている。

Claim (excerpt)：

燃焼用空気を供給する空気供給手段(7)と、供給される炭化水素原料の一部を前記空気供給手段(7)から供給される燃焼用空気により燃焼させるとともに、その燃焼熱を用いて、炭化水素原料を熱分解させる又は水蒸気と反応させるガス生成部(2)とが設けられたガス製造装置であって、前記空気供給手段(7)から供給される燃焼用空気中の酸素ガス濃度を高くする酸素富化手段(8)が設けられているガス製造装置。

IPC (4)：

C01B 3/26 ,  B01J 7/00 ,  F23K 5/00 303 ,  F23D 14/32

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭58-088101
  
• 特開昭58-088101