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J-GLOBAL ID：200903042720309084

排ガス浄化触媒およびその製造方法

Inventor： 石川 敬郎 ,  大石 知司 ,  前川 幸子 ,  高橋 研 ,  加藤 明
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 高橋 明夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994087066
Publication number (International publication number)：1995289896
Application date： Apr. 26, 1994
Publication date： Nov. 07, 1995
Summary：

【要約】【目的】 酸素過剰の酸化雰囲気中において、炭化水素類を還元剤に用いて窒素酸化物を除去する耐熱性に優れ、かつ低温高活性な触媒を提供する。【構成】 アルミナを主体とした酸化物から構成され、Rh/Mg-Al2O3、Co/Mg-Al2O3、Ag/Mg-Al2O3の3種類の触媒を用い、反応管3内の触媒層4中に、Co/Mg-Al2O3を第一層1に、次いでRh/Mg-Al2O3を第二層2に充填し、二層構造を有した触媒層を作製する。このように、二種類の触媒を積層することにより、有効な反応温度域を幅広くすることができ、ガス流れに方向性を持たせることができる。

Claim (excerpt)：

固体酸性酸化物を主体とする触媒に0.001wt%〜0.1wt%塩基性酸化物を添加したことを特徴とする排ガス浄化触媒。

IPC (8)：

B01J 23/63 ,  B01J 23/63 ZAB ,  B01D 53/86 ZAB ,  B01D 53/94 ,  B01J 23/58 ZAB ,  B01J 23/66 ZAB ,  B01J 23/78 ZAB ,  B01J 23/89 ZAB

FI (5)：

B01J 23/56 301 A ,  B01D 53/36 ZAB ,  B01D 53/36 102 H ,  B01D 53/36 102 B ,  B01J 23/56 ZAB