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J-GLOBAL ID：200903042722646517

ヒドロキシル基含有アミン化合物

Inventor： 安達 千波矢 ,  佐々木 正臣 ,  田村 宏 ,  永井 一清 ,  鈴木 哲郎 ,  島田 知幸 ,  田中 千秋 ,  田元 望 ,  岸田 浩司 ,  片山 映 ,  安西 光利 ,  今井 章博
Applicant, Patent owner： 株式会社リコー ,  保土谷化学工業株式会社
Agent (1)： 池浦 敏明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995169295
Publication number (International publication number)：1996333311
Application date： Jun. 12, 1995
Publication date： Dec. 17, 1996
Summary：

【要約】【目的】 光導電性素材として有用であり、特に電子写真感光体の感光層における電荷輸送物質として有用であり、また、各種材料、例えばポリカーボネート、ポリエステル、ポリウレタン等の製造中間体としても有用である新規ヒドロキシル基含有アミン化合物を提供する。【構成】 下記一般式(1)で表されるヒドロキシル基含有アミン化合物。【化1】(Ar1、Ar2、Ar3はアリール基、好ましくはフェニレン基である)

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)で表されるヒドロキシル基含有アミン化合物。【化1】(式中、R1、R2はアルキレン基を表す。R3、R4は水素原子、アシル基、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基を表す。Ar1、Ar2及びAr3はアリレン基を表す。但し、R1とR2、R3とR4、Ar1とAr2とAr3は、それぞれ相互に同一でも異なっていてもよい。)

IPC (3)：

C07C215/68 ,  G03G 5/06 312 ,  G03G 5/06 313

FI (3)：

C07C215/68 ,  G03G 5/06 312 ,  G03G 5/06 313

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 特開平1-183663
  
• スチルベン誘導体およびそれを用いた電子写真感光体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-272717   Applicant：三田工業株式会社
• 特開昭60-104951