含窒素炭素系多孔体及びその製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：長谷川芳樹 , 塩田辰也 , 寺崎史朗 , 長濱範明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002335519
Publication number (International publication number)：2004168587
Application date： Nov. 19, 2002
Publication date： Jun. 17, 2004
Summary：

【課題】優れた吸着性を有する含窒素炭素系多孔体及びその製造方法を提供すること。【解決手段】炭素原子及び窒素原子により骨格が形成されている含窒素炭素系材料からなる多孔体であって、比表面積が600m2/g以上であり、平均細孔径が1〜5nmであり、かつ、窒素原子と炭素原子との原子比(N/C)が0.08〜0.3であること、を特徴とする含窒素炭素系多孔体。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

炭素原子及び窒素原子により骨格が形成されている含窒素炭素系材料からなる多孔体であって、比表面積が600m2/g以上であり、平均細孔径が1〜5nmであり、かつ、窒素原子と炭素原子との原子比(N/C)が0.08〜0.3であること、を特徴とする含窒素炭素系多孔体。

IPC (8)：

C01B31/02 , B01J20/20 , B01J20/28 , B01J32/00 , B01J35/04 , B01J35/10 , C02F1/28 , C23C16/01

FI (8)：

C01B31/02 101Z , B01J20/20 D , B01J20/28 Z , B01J32/00 , B01J35/04 D , B01J35/10 301Z , C02F1/28 D , C23C16/01

F-Term (63)：

4D024AA04 , 4D024AB16 , 4D024BA02 , 4D024BB01 , 4G066AA05B , 4G066AA10D , 4G066AB09A , 4G066AB11A , 4G066AB13A , 4G066BA23 , 4G066BA26 , 4G066BA38 , 4G066CA45 , 4G066DA02 , 4G066DA08 , 4G066FA23 , 4G066FA38 , 4G066FA40 , 4G069AA01 , 4G069AA08 , 4G069BA02C , 4G069BB01A , 4G069BB01B , 4G069BD04A , 4G069BD04B , 4G069BD06A , 4G069BD06B , 4G069BE13C , 4G069BE38C , 4G069DA05 , 4G069EC04X , 4G069EC04Y , 4G069EC05X , 4G069EC05Y , 4G069EC13X , 4G069EC14X , 4G069EC14Y , 4G069FB03 , 4G069FB34 , 4G069FB49 , 4G069FC02 , 4G069FC08 , 4G146AA15 , 4G146AC05A , 4G146AC05B , 4G146AC06A , 4G146AC06B , 4G146AC08A , 4G146AC08B , 4G146AC09A , 4G146AC09B , 4G146AC10A , 4G146AC28B , 4G146AC30A , 4G146AD31 , 4G146AD35 , 4G146BA11 , 4G146BC03 , 4K030AA09 , 4K030BA27 , 4K030BB00 , 4K030FA10 , 4K030LA11

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

高比表面積炭素材料およびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-219074 Applicant：三菱瓦斯化学株式会社

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