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J-GLOBAL ID：200903042748722858
X線露光用マスク及びそのブランク
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991129684
Publication number (International publication number)：1993129190
Application date： May. 31, 1991
Publication date： May. 25, 1993
Summary：
【要約】【目的】X線露光用マスクの透過支持膜において、アライメント光の透過率が波長の少しの変化により干渉が発生し、透過率が変化するのを防止することを目的としている。【構成】枠体11と第1の反射防止膜2とX線透過支持膜3と第2の反射防止膜4とX線吸収体パターン16からなっている。枠体11は周囲のみに形成されており、非常に薄いX線透過支持膜3等を支持している。第1の反射防止膜2とX線透過支持膜3と第2の反射防止膜4は層状をなしており、一体となって枠体11とその枠体により形成されている窓に張られて形成されている。X線吸収体パターン16は窓部に形成されており、X線非透過性の膜が窓上でパターン化されて形成されている。
Claim (excerpt)：
アライメント光透過性X線透過支持膜の両側に反射防止膜が形成され、主面の反射防止膜上にX線吸収体パターンが形成されていることを特徴とするX線露光用マスク。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
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