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J-GLOBAL ID：200903042775896426

磁性薄膜の作製方法及び装置

Inventor： 小林 敏郎 ,  花中 勝保
Applicant, Patent owner： 三菱重工業株式会社
Agent (1)： 光石 俊郎 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991241779
Publication number (International publication number)：1993082380
Application date： Sep. 20, 1991
Publication date： Apr. 02, 1993
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 容易に磁性特性の良好な磁性薄膜を得る。【構成】 冷却ロール5により冷却されながら蒸着部に搬送されるフィルム7に蒸着材料13の蒸気を供給すると共にオゾナイザー15からオゾンを供給し、且つ紫外光照射手段16により紫外光を照射する。

Claim (excerpt)：

フィルム上に磁性層を蒸着して磁性薄膜を形成する方法であって、上記磁性層の成膜部にオゾンを供給しつつ紫外光を照射して蒸着を行うことを特徴とする磁性薄膜の作製方法。

IPC (3)：

H01F 41/20 ,  G11B 5/85 ,  H01F 10/16