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J-GLOBAL ID:200903042777076680
小型可変エネルギー単色コヒーレントマルチX線発生装置
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (4):
役 昌明
, 大橋 公治
, 平野 雅典
, 林 紘樹
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004339792
Publication number (International publication number):2006147510
Application date: Nov. 25, 2004
Publication date: Jun. 08, 2006
Summary:
【課題】パラメトリックX線発生装置において、1つの高エネルギー電子ビームから複数のX線を取り出す。【解決手段】高エネルギー電子線加速器1で、高エネルギー電子ビームを発生する。高エネルギー電子ビームを当ててパラメトリックX線を発生するための複数個のX線発生用の薄板単結晶2、4、6、8を、高エネルギー電子ビームの方向に沿って直線状に並べる。1つのX線発生用単結晶から、1つまたは複数のパラメトリックX線を発生する。それぞれのパラメトリックX線を、X線選択用の反射単結晶3、5、7、9、10で選択的に反射させて取り出す。このようにして、小型でX線エネルギーを変えることができるとともに、単色でコヒーレントなX線を発生できるパラメトリックX線発生装置において、1つの高エネルギー電子ビーム1から複数のX線を取り出せる。【選択図】図1
Claim (excerpt):
高エネルギー電子ビームを発生する電子ビーム発生手段と、高エネルギー電子ビームを当ててパラメトリックX線を発生するために、高エネルギー電子ビームの方向に沿って直線状に並べた複数個のX線発生用単結晶と、それぞれのX線発生用単結晶から得られるパラメトリックX線を選択的に反射させて取り出すためのX線選択用単結晶とを具備することを特徴とするマルチX線発生装置。
IPC (4):
H05G 2/00
, G21K 1/00
, G21K 1/06
, G21K 5/08
FI (4):
H05G1/00 J
, G21K1/00 X
, G21K1/06 G
, G21K5/08 X
F-Term (17):
2G001AA01
, 2G001AA03
, 2G001AA09
, 2G001AA10
, 2G001AA20
, 2G001BA13
, 2G001CA01
, 2G001EA01
, 2G001EA08
, 2G001EA20
, 2G001GA01
, 2G001JA01
, 4C092AA01
, 4C092AB30
, 4C092AC08
, 4C092BD20
, 4C092CE02
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
-
X線発生方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-192182
Applicant:理学電機株式会社
Cited by examiner (1)
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X線発生方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-192182
Applicant:理学電機株式会社
Article cited by the Patent: