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J-GLOBAL ID：200903042792108709

着色パターン形成法

Inventor： 沢木 健二 ,  運天 美智子
Applicant, Patent owner： 日本化薬株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992173692
Publication number (International publication number)：1993341115
Application date： Jun. 09, 1992
Publication date： Dec. 24, 1993
Summary：

【要約】【構成】(a)可染性樹脂モノマー(A)、(b)可染性モノマー(A)以外の親水性モノマー(B)、(C)疎水性モノマー(C)より成る共重合体及びシリコーンオイルを主要成分とする可染性感光性樹脂を基材表面に塗付し、減圧下でプリベーク後、マスクを用いて露光、現像、染色した後、酸性液で処理する事を特徴とする着色パターン形成法。【効果】鮮明な画像で、かつ、オーバーコート材の密着性の良い着色パターン(カラーフィルター)が得られる。

Claim (excerpt)：

(a)可染性樹脂モノマー(A)、(b)可染性モノマー(A)以外の親水性モノマー(B)、(C)疎水性モノマー(C)より成る共重合体(D)及びシリコーンオイルを主要成分とする可染性感光性樹脂組成物を基材表面に塗付し、減圧下でプリベークした後、露光、現像、染色することを特徴とする着色パターン形成法