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J-GLOBAL ID：200903042827453099

光学薄膜体及びその製造方法

Inventor： 大谷 正之
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 細江 利昭
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001345779
Publication number (International publication number)：2003149436
Application date： Nov. 12, 2001
Publication date： May. 21, 2003
Summary：

【要約】【課題】 従来技術のように光の干渉が発生せず、かつ、光の吸収が極めて少ない光学薄膜体を提供する。【解決手段】 2酸化シリコンで形成された基板1の上には、5酸化タンタルで形成された保持薄膜2が形成されている。保持薄膜2は、図に示すように、断面が裁頭楔型の形状をしている。そして、その上に、2酸化シリコンと5酸化タンタルを交互に積層して所定の光学特性を持たせた光学薄膜3が、その積層界面を、保持薄膜2の上面と平行にして形成されている。このように、保持薄膜の断面が裁頭楔型をしているので、光学薄膜3と保護薄膜2のとの境面で反射された光の進行方向と、保護薄膜3の裏側(図の下側)で反射された光の進行方向が異なり、両者が干渉することがない。基板1は、光学特性には何らの影響を及ぼさない。保護薄膜2は薄いので、光の減衰はほとんど無い。

Claim (excerpt)：

開口部を有する基板と、当該基板の開口部を跨ぐように形成され当該基板に固着された、断面が楔状又は裁頭楔状の保持薄膜と、当該保持薄膜の上に形成され当該保持薄膜に固着された、多層膜からなり所定の光学特性を有する光学薄膜とを有する光学薄膜体。

IPC (3)：

G02B 5/28 ,  C23C 14/22 ,  G02B 5/26

FI (3)：

G02B 5/28 ,  C23C 14/22 Z ,  G02B 5/26

F-Term (21)：

2H048FA05 ,  2H048FA12 ,  2H048FA21 ,  2H048FA24 ,  2H048GA04 ,  2H048GA13 ,  2H048GA21 ,  2H048GA33 ,  2H048GA51 ,  2H048GA62 ,  4K029AA08 ,  4K029AA09 ,  4K029BA43 ,  4K029BA46 ,  4K029BB01 ,  4K029BB02 ,  4K029BC07 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029CA05 ,  4K029CA15