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J-GLOBAL ID:200903042855599520

液処理装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997147367
Publication number (International publication number):1998335231
Application date: Jun. 05, 1997
Publication date: Dec. 18, 1998
Summary:
【要約】【課題】 保存安定性が悪い処理液を用いる場合にも、材料安定性を維持し、しかも連続的に処理を行うことができる液処理装置を提供することを目的とする。【解決手段】 処理液を被処理体に供給する処理液供給手段11と、処理液を収容する処理液容器1と、この処理液容器1内の処理液の温度を保存温度に調整する温度調整手段3と、保存温度の処理液を貯留して使用温度にする処理液貯留容器5と、使用温度の処理液を前記処理液貯留容器5から前記処理液供給手段に送出する処理液送出手段とを具備することを特徴としている。
Claim (excerpt):
被処理体に対して処理液を供給して被処理体を処理する液処理装置であって、処理液を被処理体に供給する処理液供給手段と、処理液を収容する処理液容器と、この処理液容器内の処理液の温度を保存温度に調整する温度調整手段と、保存温度の処理液を貯留して使用温度にする処理液貯留容器と、使用温度の処理液を前記処理液貯留容器から前記処理液供給手段に送出する処理液送出手段とを具備することを特徴とする液処理装置。
IPC (2):
H01L 21/027 ,  B05C 11/10
FI (3):
H01L 21/30 564 C ,  B05C 11/10 ,  H01L 21/30 569 C

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