ドライエッチング装置及びエッチング方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002315851
Publication number (International publication number)：2004152960
Application date： Oct. 30, 2002
Publication date： May. 27, 2004
Summary：

【課題】低コスト且つ比較的容易に、所望の方向と角度で斜めエッチングを可能にするドライエッチング装置とそれを用いたエッチング方法を提供することを目的とする。【解決手段】ドライエッチング装置100は、チャンバー10と、加工基材コントロールユニット20と、高周波発振器41、整合器42及びブロッキングコンデンサ43を備えたプラズマ発生手段40と、高周波発振器51、整合器52及びプラズマ発生用コイル(アノード電極)53を備えたプラズマ発生手段50と、ガス供給口11と、排気口12と、真空排気機構60とを備えており、プラズマ処理中に被エッチング基材を傾斜、回転できる被エッチング基材ントロールユニット20を備えているのが特徴である。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

少なくともプラズマ発生手段(40、50)と、チャンバー(10)と、傾斜角及び回転制御機構(21)、回転ユニット(22)、傾斜角制御機構(23)及びステージ(24)からなる加工基材コントロールユニット(20)と、ガス供給口(11)と、排気口(12)と、真空排気機構(60)とを備えていることを特徴とするドライエッチング装置。

IPC (1)：

H01L21/3065

FI (1)：

H01L21/302 105A

F-Term (15)：

5F004AA05 , 5F004AA12 , 5F004BB13 , 5F004BB24 , 5F004BB32 , 5F004BD03 , 5F004CA05 , 5F004CA06 , 5F004DA01 , 5F004DA04 , 5F004DB03 , 5F004EA19 , 5F004EA37 , 5F004EB01 , 5F004EB04

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