Pat
J-GLOBAL ID:200903042991848843
位置計測方法及びその装置、露光方法及びその装置、デバイスの製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
志賀 正武 (外5名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000365294
Publication number (International publication number):2002170757
Application date: Nov. 30, 2000
Publication date: Jun. 14, 2002
Summary:
【要約】【課題】 物体上に形成されたマークを高いコントラストで撮像するとともに、そのマークの位置情報を正確に計測することができる位置計測方法及びその装置を提供する。【解決手段】 照明によりマークWMから発生した所定の波長の光を撮像素子65で撮像し、その撮像素子65の撮像結果と、所定の波長の光を用いた場合の撮像素子65の所定数の画素と物体W上の距離情報との間の関係とに基づいて、マークWMの位置情報を求める。
Claim (excerpt):
物体上に形成されたマークを照明して該マークを撮像素子で撮像し、該撮像結果に基づいて前記マークの位置に関する位置情報を計測する位置計測方法において、前記照明により前記マークから発生した所定の波長の光を前記撮像素子で撮像し、前記撮像素子の撮像結果と、前記所定の波長の光を用いた場合の前記撮像素子の所定数の画素と前記物体上の距離情報との間の関係とに基づいて、前記マークの位置情報を求めることを特徴とする位置計測方法。
IPC (3):
H01L 21/027
, G01B 11/00
, G03F 9/00
FI (5):
G01B 11/00 A
, G01B 11/00 H
, G03F 9/00 H
, H01L 21/30 525 W
, H01L 21/30 525 R
F-Term (24):
2F065AA03
, 2F065AA39
, 2F065BB02
, 2F065BB29
, 2F065CC20
, 2F065DD03
, 2F065FF42
, 2F065FF48
, 2F065FF55
, 2F065GG01
, 2F065GG04
, 2F065JJ03
, 2F065JJ26
, 2F065LL21
, 2F065LL30
, 2F065LL46
, 2F065MM02
, 2F065PP12
, 2F065QQ13
, 2F065QQ23
, 5F046DB05
, 5F046FA10
, 5F046FB13
, 5F046FC04
Return to Previous Page