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J-GLOBAL ID:200903043002095218

磁気抵抗効果素子、これを用いた磁気抵抗効果型ヘッド、メモリー素子、及び増幅素子

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 山本 秀策
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995108905
Publication number (International publication number):1996316549
Application date: May. 02, 1995
Publication date: Nov. 29, 1996
Summary:
【要約】【目的】 微小磁界動作が可能で比較的大きなMR比を示す高感度磁気抵抗素子および磁気抵抗効果型ヘッドを提供する。半導体を用いない非破壊読み出しが可能な不揮発性のメモリー素子および増幅素子を提供する。【構成】 基板と、その基板の上に形成された多層構造であって、硬質磁性膜と、軟磁性膜と、その硬質磁性膜とその軟磁性膜とを分離する非磁性金属膜とを含む多層構造とを有する磁気抵抗効果素子であって、その硬質磁性膜の磁化曲線は良好な角型性を有しており、その硬質磁性膜の磁化容易軸方向は検知すべき磁界の方向と実質的に一致する磁気抵抗効果素子。
Claim (excerpt):
基板と、該基板の上に形成された多層構造であって、硬質磁性膜と、軟磁性膜と、該硬質磁性膜と該軟磁性膜とを分離する非磁性金属膜とを含む多層構造とを有する磁気抵抗効果素子であって、該硬質磁性膜の磁化曲線は良好な角型性を有しており、該硬質磁性膜の磁化容易軸方向は検知すべき磁界の方向と実質的に一致する磁気抵抗効果素子。
IPC (5):
H01L 43/08 ,  G01R 33/09 ,  G06K 19/06 ,  G11B 5/39 ,  H01F 10/08
FI (5):
H01L 43/08 Z ,  G11B 5/39 ,  H01F 10/08 ,  G01R 33/06 R ,  G06K 19/00 B
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (10)
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