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J-GLOBAL ID：200903043020429417

感光性粘着レジスト組成物

Inventor： 坂口 徳久 ,  村上 和夫 ,  山口 尚男
Applicant, Patent owner： 大日本インキ化学工業株式会社
Agent (1)： 高橋 勝利
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993050621
Publication number (International publication number)：1994266103
Application date： Mar. 11, 1993
Publication date： Sep. 22, 1994
Summary：

【要約】【構成】 マスクパタ-ンを固着するに足る塗膜表面粘着性を有し、かつ、活性光線照射によって現像除去可能な非画像部と非粘着性の硬化画像部とを形成する感光性粘着レジスト組成物であって、下記一般式【化1】(X;多価アルコール残基、n;2〜6の整数)で表わされる化合物を含有する重合性アクリルオリゴマ-からなる感光性粘着レジスト組成物。【効果】 本発明の組成物は、薄膜単層コ-ティングができ、かつ、その表面に金属マスク等を転写・固着し得る機能を有するフォトレジスト材料であり、ステッパ-を用いずに一括露光方式で高解像度の耐エッチング性に優れたレジストパタ-ン画像を形成することができる。本発明の組成物によれば、大面積回路素子基板を簡便に生産性良く製造することができる。

Claim (excerpt)：

基材上に光重合性組成物を塗布し、表面粘着力を有する感光性薄膜層を形成する第1工程、該感光性薄膜層表面上に遮光性固形マスクを転写・固着する第2工程、固着固形マスク側から活性光線を照射することによってマスク開口部の感光性薄膜層を架橋硬化する第3工程及び固形マスクを剥離除去した後、未露光感光性薄膜層を現像除去して基材上に高精細パターン画像を形成する第4工程からなる高精細パターン画像を形成する方法に用いる光重合性組成物から成る感光性粘着レジスト組成物であって、前記光重合性組成物が、一般式【化1】(式中、Xは多価アルコール成分残基を表わし、nは2〜6の整数を表わす。)で表わされる化合物を含有することを特徴とする感光性粘着レジスト組成物。

IPC (4)：

G03F 7/038 501 ,  G03F 7/027 ,  G03F 7/028 ,  H01L 21/027