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J-GLOBAL ID：200903043030718522

連続真空蒸着装置

Inventor： 根橋 清
Applicant, Patent owner： 石川島播磨重工業株式会社
Agent (1)： 堀田 実 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993082274
Publication number (International publication number)：1994299353
Application date： Apr. 09, 1993
Publication date： Oct. 25, 1994
Summary：

【要約】【目的】 蒸着基板以外の部分に無効蒸着物が堆積するのを防止し、かつ無効蒸着物の回収を行い蒸着材料の無駄を無くし、蒸着基板の蒸着膜を所定の膜厚分布にすることができる連続真空蒸着装置を提供する。【構成】 真空中で電子銃4によりルツボ2a、2bから蒸発材料3a、3bを蒸発させ、連続的に供給される蒸着基板7の表面に蒸着膜を形成させる連続真空蒸着装置において、ルツボの上側縁にルツボの上面開口の面積を可変する蒸発流制御板20a、20b、21a、21b、22a、22bを傾動自在に設け、かつ蒸発流制御板に加熱手段を設ける。

Claim (excerpt)：

真空中で、ルツボから蒸着材料を蒸発あるいは昇華させ、連続的に供給される走行基板の表面に蒸着膜を形成する連続真空蒸着装置において、前記ルツボの上側縁にルツボの上面開口の面積を可変する蒸発流制御板を傾動自在に設け、かつ該蒸発流制御板に加熱手段を設けた、ことを特徴とする連続真空蒸着装置。

IPC (2)：

C23C 14/56 ,  C23C 14/54

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平3-271371
  
• 特開平2-097665
  
• 特開昭61-261477
  
• 特公昭61-034511