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J-GLOBAL ID:200903043039961110
干渉測定方法及び干渉測定システム
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
佐野 静夫
, 山田 茂樹
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004016526
Publication number (International publication number):2005207961
Application date: Jan. 26, 2004
Publication date: Aug. 04, 2005
Summary:
【課題】 開口数NA>1の集光光学素子の透過波面形状が測定可能であるとともに、その測定後に集光光学素子の洗浄を行う必要がなく、複数の集光光学素子に対する連続した測定が容易な干渉測定方法と、それに用いる干渉測定システムを提供する。 【解決手段】 開口数NA>1の集光光学素子10を干渉計K1からの被検光束が入射する位置に配置し、集光光学素子10側から順に、第1の固体誘電体11と、液体誘電体12と、第2の固体誘電体13と、球面の一部を成す反射面14と、で構成された反射球面原器G1を、第1の固体誘電体11が集光光学素子10と接触するように配置し、その接触状態を保持するとともに液体誘電体12による第1,第2の固体誘電体11,13間の光学的接続状態を保持しながら、第2の固体誘電体13と反射面14を移動させることにより反射面14位置を調整した後、集光光学素子10の透過波面形状を干渉計K1で測定する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
開口数NA>1である集光光学素子を干渉計からの被検光束が入射する位置に配置し、その集光光学素子側から順に、第1の固体誘電体と、液体誘電体と、第2の固体誘電体と、球面の一部を成す反射面と、で構成された反射球面原器を、前記第1の固体誘電体が集光光学素子と接触するように配置し、その接触状態を保持するとともに前記液体誘電体による第1,第2の固体誘電体間の光学的接続状態を保持しながら、前記第2の固体誘電体と前記反射面とを移動させることにより反射面位置を調整した後、集光光学素子の透過波面形状を干渉計で測定することを特徴とする干渉測定方法。
IPC (3):
G01B9/02
, G01B11/24
, G01M11/02
FI (3):
G01B9/02
, G01M11/02 B
, G01B11/24 D
F-Term (27):
2F064AA09
, 2F064AA15
, 2F064EE02
, 2F064EE05
, 2F064FF01
, 2F064GG22
, 2F064GG41
, 2F064GG44
, 2F064HH03
, 2F064HH08
, 2F064JJ01
, 2F065AA51
, 2F065CC21
, 2F065EE00
, 2F065FF52
, 2F065FF61
, 2F065GG04
, 2F065HH13
, 2F065JJ03
, 2F065JJ09
, 2F065JJ26
, 2F065LL00
, 2F065LL04
, 2F065LL46
, 2F065PP11
, 2F065QQ17
, 2G086HH07
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
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光磁気記録媒体及び光学的情報記憶装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-272869
Applicant:富士通株式会社
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光学ヘッド用スライダ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-285625
Applicant:ソニー株式会社
-
ソリッドイマージョンミラーおよび再生装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-236724
Applicant:ミノルタ株式会社
-
反射微小光学系
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-333940
Applicant:ミノルタ株式会社
-
光学収差測定方法及び光学収差測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-202704
Applicant:ソニー株式会社
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