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J-GLOBAL ID：200903043056467080

ケイ素系ポリマーの放射線照射によるマイクロセラミックチューブの製造法

Inventor： 杉本 雅樹 ,  出崎 亮 ,  岡村 清人
Applicant, Patent owner： 日本原子力研究所
Agent (1)： 社本 一夫 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001276175
Publication number (International publication number)：2003082532
Application date： Sep. 12, 2001
Publication date： Mar. 19, 2003
Summary：

【要約】【課題】 直径数ミクロン〜数百ミクロンの炭化ケイ素(SiC)及び窒化ケイ素(SiN)のマイクロセラミックチューブの製造法に関する。【解決手段】 有機ケイ素ポリマー繊維を電離性放射線により表面を酸化不融化し、有機溶媒により中心部の未架橋部分を抽出して中空のケイ素ポリマー繊維とし、これを不活性ガス中で焼成してセラミック化することによりマイクロSiCセラミックチューブを製造する方法。

Claim (excerpt)：

有機ケイ素ポリマー繊維を電離性放射線により表面を酸化不融化し、有機溶媒により中心部の未架橋部分を抽出して中空のケイ素ポリマー繊維とし、これを不活性ガス中で焼成してセラミック化することによりマイクロSiCセラミックチューブを製造する方法。

IPC (8)：

D01F 9/10 ,  C08J 7/00 301 ,  C08J 7/00 302 ,  C08J 7/00 CFH ,  D06M 10/00 ,  D06M 11/00 ,  D06M 13/165 ,  C08L 83:05

FI (9)：

D01F 9/10 A ,  C08J 7/00 301 ,  C08J 7/00 302 ,  C08J 7/00 CFH ,  D06M 10/00 J ,  D06M 11/00 ,  D06M 13/165 ,  C08L 83:05 ,  D06M 7/00 Z

F-Term (24)：

4F073AA31 ,  4F073AA32 ,  4F073BA33 ,  4F073BB01 ,  4F073CA41 ,  4F073CA42 ,  4F073DA06 ,  4F073GA01 ,  4L031AA29 ,  4L031AB04 ,  4L031AB25 ,  4L031CB07 ,  4L033AA09 ,  4L033AB01 ,  4L033AC15 ,  4L033BA14 ,  4L037CS29 ,  4L037CS32 ,  4L037FA01 ,  4L037FA04 ,  4L037PA49 ,  4L037PA50 ,  4L037PF08 ,  4L037PF26

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特許第3050959号
  
• 繊維強化窒化ケイ素セラミックス
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-006641   Applicant：日本原子力研究所, 日立電線株式会社