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J-GLOBAL ID:200903043082225834

[1,3]ジセレノール-2-チオンの新規製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 川口 嘉之 ,  松倉 秀実 ,  遠山 勉
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003054846
Publication number (International publication number):2004262839
Application date: Feb. 28, 2003
Publication date: Sep. 24, 2004
Summary:
【課題】セレン化水素ガス、及び二セレン化炭素などを使用しない、より安全な[1,3]ジセレノール-2-チオンの新規製造方法を提供する。【解決手段】下記の式:【化1】で示される2-チオキソ-[1,3]ジセレノール-4,5-ジカルボン酸にMeL(式中、Meはメチル基を示し;Lは脱離基を示す)で表されるメチル化剤を添加して反応させ、下記の一般式(I):【化2】(式中、Me及びLは前記と同義である)で表される(4-カルボキシ-[1,3]ジセレノール-2-イリデン)-メチルスルホニウム塩を生成させ、次いで塩基性の含窒素複素6員環化合物を添加して反応させることを特徴とする、[1,3]ジセレノール-2-チオンの製造方法。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
下記の式:
IPC (1):
C07D345/00
FI (1):
C07D345/00

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