磁気共鳴イメージング装置の超伝導磁石及びその製造方法

Inventor：
Applicant, Patent owner： ,
Agent (5)：波多野久 , 関口俊三 , 猿渡章雄 , 河村修 , 山田毅彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008022424
Publication number (International publication number)：2009178491
Application date： Feb. 01, 2008
Publication date： Aug. 13, 2009
Summary：

【課題】MRI装置の超伝導磁石の製造方法において、超伝導磁石の製造コストを抑えること。【解決手段】MRI装置の超伝導磁石の製造方法は、マンドレルの外周に溝を削成する溝削成ステップ(ステップS1)と、所要温度でマンドレルの材料が有する軸方向の線膨張率に対応する巻き角度でマンドレルの外周に巻き付けられたG-FRPによってG-FRP層を形成するG-FRP層形成ステップ(ステップS2)と、超伝導線を嵌合するために、G-FRP層内の外周部分に嵌合溝を削成する嵌合溝削成ステップ(ステップS3)と、嵌合溝に超伝導線を嵌合して、マンドレルの外側に超伝導コイルを形成させる超伝導コイル形成ステップ(ステップS4)と、を有すること。【選択図】図5

Claim (excerpt)：

マンドレルと、超伝導線と、前記超伝導線を前記マンドレルの外周に巻き付けるために前記超伝導線を案内する超伝導線案内部と、を備え、前記超伝導線案内部に、所要温度で前記マンドレルの材料が有する軸方向の線膨張率に対応する巻き角度で前記マンドレルの外周に巻き付けられたガラス繊維によって形成されるガラス繊維層と、前記超伝導線を嵌合するために、前記ガラス繊維層内の外周部分に削成される嵌合溝と、を設けることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置の超伝導磁石。

IPC (3)：

A61B 5/055 , G01R 33/381 , H01F 6/00

FI (3)：

A61B5/05 331 , G01N24/06 510B , H01F7/22 C

F-Term (2)：

4C096AB32 , 4C096AB42

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

MRI用超電導磁石
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-190873 Applicant：株式会社日立製作所

Cited by examiner (3)

MRI装置用超電導磁石
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-324340 Applicant：株式会社東芝
超電導ダイポールマグネット
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-232980 Applicant：東洋紡績株式会社
超電導コイル
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-359505 Applicant：鹿島俊弘

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