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J-GLOBAL ID：200903043097483457

スペーサー形成用感放射線性樹脂組成物、スペーサーとその形成方法および液晶表示素子

Inventor：
一戸 大吾

About 一戸 大吾

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山田 義隆

About 山田 義隆

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岩渕 智子

About 岩渕 智子

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西尾 壽浩

About 西尾 壽浩

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西川 通則

About 西川 通則


Applicant, Patent owner：
JSR株式会社

About JSR株式会社


Agent (1)： 福沢 俊明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004015158
Publication number (International publication number)：2005208360
Application date： Jan. 23, 2004
Publication date： Aug. 04, 2005
Summary：
【課題】350nm未満の波長を実質的に含まない放射線による露光でも、高解像度、高感度であり、かつパターン形状、圧縮強度、ラビング耐性、透明基板との密着性等の諸性能に優れたスペーサーを容易に形成することができるスペーサー用感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】スペーサー用感放射線性樹脂組成物は、〔A〕(a1)不飽和カルボン酸および/または不飽和カルボン酸無水物と(a2)エポキシ基含有不飽和化合物と(a3)他の不飽和化合物との共重合体、〔B〕重合性不飽和化合物、〔C〕ビイミダゾール系化合物、〔D〕カルボニル基を有する感放射線性重合開始剤、並びに〔E〕ジアルキルアミノ基を有する化合物および/または〔F〕チオール系化合物を含有する。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
〔A〕(a1)不飽和カルボン酸および/または不飽和カルボン酸無水物と(a2)エポキシ基含有不飽和化合物と(a3)他の不飽和化合物との共重合体、 〔B〕重合性不飽和化合物、 〔C〕ビイミダゾール系化合物、 〔D〕カルボニル基を有する感放射線性重合開始剤、並びに 〔E〕ジアルキルアミノ基を有する化合物および/または〔F〕チオール系化合物 を含有することを特徴とするスペーサー形成用感放射線性樹脂組成物。
IPC (5)：
G02F1/1339 ,  C08F265/00 ,  C08G59/40 ,  G03F7/027 ,  G03F7/028
FI (5)：
G02F1/1339 500 ,  C08F265/00 ,  C08G59/40 ,  G03F7/027 515 ,  G03F7/028
F-Term (44)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA14 ,  2H025AB13 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC32 ,  2H025BC42 ,  2H025BC74 ,  2H025BC85 ,  2H025CA01 ,  2H025CA27 ,  2H025CA28 ,  2H025CA30 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  2H089LA06 ,  2H089MA04X ,  2H089NA14 ,  2H089PA06 ,  2H089PA07 ,  2H089QA12 ,  2H089QA15 ,  4J026AA17 ,  4J026AA43 ,  4J026AA45 ,  4J026AA48 ,  4J026BA28 ,  4J026BA50 ,  4J026BB01 ,  4J026DA02 ,  4J026DA12 ,  4J026DB02 ,  4J026DB11 ,  4J026DB29 ,  4J026FA04 ,  4J026GA07 ,  4J036AK11 ,  4J036DC40 ,  4J036EA04 ,  4J036HA01 ,  4J036JA15
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (8)
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