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J-GLOBAL ID：200903043097863349

頭髪洗浄料

Inventor： 大森 隆司 ,  宮原 令二 ,  鹿子木 宏之 ,  難波 富幸
Applicant, Patent owner： 株式会社資生堂
Agent (1)： ▲高▼野 俊彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000035525
Publication number (International publication number)：2001226234
Application date： Feb. 14, 2000
Publication date： Aug. 21, 2001
Summary：

【要約】【課題】 使用時及び使用後の髪の感触、特になめらかさに優れ、且つ泡立ち良好な頭髪洗浄料を提供すること。【解決手段】下記化学式(1)で表わされるポリオキシエチレンジカルボン酸エステルと界面活性剤とを含有することを特徴とする頭髪洗浄料。(1)(式中、R1、R2は水素または炭素数1〜4のアルキルまたは分枝アルキル基、m、n、X、Yは0〜5の整数で同時に0にはならない。R3は炭素数0〜10の分枝または直鎖のアルキレン基)

Claim (excerpt)：

下記化学式(1)で表わされるポリオキシエチレンジカルボン酸エステルと界面活性剤とを含有することを特徴とする頭髪洗浄料。【化1】(1)(式中、R1、R2は水素または炭素数1〜4のアルキルまたは分枝アルキル基、m、n、X、Yは0〜5の整数で同時に0にはならない。R3は炭素数0〜10の分枝または直鎖のアルキレン基)

IPC (5)：

A61K 7/075 ,  C11D 1/06 ,  C11D 1/88 ,  C11D 3/20 ,  C11D 3/37

FI (5)：

A61K 7/075 ,  C11D 1/06 ,  C11D 1/88 ,  C11D 3/20 ,  C11D 3/37

F-Term (33)：

4C083AC122 ,  4C083AC301 ,  4C083AC302 ,  4C083AC312 ,  4C083AC372 ,  4C083AC392 ,  4C083AC401 ,  4C083AC402 ,  4C083AC641 ,  4C083AC642 ,  4C083AC712 ,  4C083AC782 ,  4C083AC792 ,  4C083AD132 ,  4C083BB01 ,  4C083BB05 ,  4C083BB07 ,  4C083CC38 ,  4C083DD01 ,  4C083DD02 ,  4C083EE03 ,  4C083EE06 ,  4H003AB05 ,  4H003AB23 ,  4H003AC13 ,  4H003AD03 ,  4H003BA12 ,  4H003DA02 ,  4H003EB07 ,  4H003EB09 ,  4H003ED02 ,  4H003FA18 ,  4H003FA21

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 無水コハク酸誘導体を含有する皮膚洗浄用組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-163080   Applicant：ロレアル