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J-GLOBAL ID：200903043101155893

再生ポリグルカン薄膜の製造方法

Inventor： ゲールハルト、ヴェーグナー ,  ゲールハルト、ヴェンツ ,  マティアス、シャウプ ,  アルミン、シュタイン ,  ディーター、クレム
Applicant, Patent owner： ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト
Agent (1)： 田代 烝治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993065638
Publication number (International publication number)：1994016833
Application date： Mar. 24, 1993
Publication date： Jan. 25, 1994
Summary：

【要約】【目的】 ポリグルカンをシリレート化剤と反応させ、フィルムを形成し、脱シリレート処理することにより再生ポリグルカンの均斉な薄膜を製造する方法において、極めて簡単な態様で均斉な薄膜を再現可能に製造し、シリレート化剤を直接的に回収すること。【構成】 フィルム形成をラングミュア/ブロジェット法あるいはスピンコーティング法で行い、脱シリレート処理を気状鉱酸もしくは有機酸で行うことを特徴とする方法。

Claim (excerpt)：

ポリグルカンをシリレート化剤と反応させ、フィルム形成し、脱シリレート処理することにより再生ポリグルカン薄膜を製造する方法において、フィルム形成をラングミュア/ブロジェット法あるいはスピンコーティング法で行い、脱シリレート処理を気状鉱酸もしくは有機酸で行うことを特徴とする方法。