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J-GLOBAL ID：200903043102234045

ガス処理装置とそれを用いた排ガス中の窒素酸化物の分解方法

Inventor： 高橋 アメリア 幸枝 ,  前川 聡 ,  鈴木 和夫 ,  石垣 幸雄
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所 ,  株式会社日立エンジニアリングサービス
Agent (1)： 高橋 明夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996169619
Publication number (International publication number)：1998015336
Application date： Jun. 28, 1996
Publication date： Jan. 20, 1998
Summary：

【要約】【課題】一対の放電電極間に高周波電圧を印加して大気圧グロー放電プラズマを発生させ、排ガス中の窒素酸化物を高効率で分解するガス処理装置の提供。【解決手段】放電容器内に設けた少なくとも一対の放電電極間に高周波電圧の印加により発生する大気圧グロー放電プラズマでガスを分解するガス処理装置において、前記放電電極が表面に等間隔に多数の四角錐状の突起3’を設けた第1電極と、該第1電極の突起面側に対向し、かつ、対向面が誘電体で被覆されている第2電極とを備え、前記第1電極と第2電極間に20〜100kHzの高周波電圧を印加できる高周波電圧印加手段を有しているガス処理装置。

Claim (excerpt)：

放電容器内に設けた少なくとも一対の放電電極間に高周波電圧の印加により発生する大気圧グロー放電プラズマでガスを分解するガス処理装置において、前記放電電極が表面に等間隔に多数の四角錐状の突起を設けた第1電極と、該第1電極の突起面側に対向し、かつ、対向面が誘電体で被覆されている第2電極とを備え、前記第1電極と第2電極間に20〜100kHzの高周波電圧を印加できる高周波電圧印加手段を有していることを特徴とするガス処理装置。

IPC (3)：

B01D 53/32 ,  B01D 53/56 ,  B01D 53/74

FI (2)：

B01D 53/32 ,  B01D 53/34 129 C