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J-GLOBAL ID：200903043110441270

脱毛低減用の組成物

Inventor： デイデイエ・サン-レジエ
Applicant, Patent owner： ロレアル
Agent (1)： 八木田 茂 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995108677
Publication number (International publication number)：1996053329
Application date： May. 02, 1995
Publication date： Feb. 27, 1996
Summary：

【要約】【目的】 脱毛の低減用の新規な化粧料又は皮膚科用組成物を得る。【構成】 本発明では脱毛の治療用の化粧料組成物又は皮膚科用組成物中に、抗真菌剤と、マクロライド及びピラノシド類に属する抗細菌剤以外の、ハロゲン化化合物よりなる抗細菌剤とを組合せて有効成分として配合してある。脱毛の低減、ならびに毛髪の性状に著るしい改善増強が得られる。

Claim (excerpt)：

少なくとも1種の抗真菌剤を含み、またマクロライド及びピラノシド類に属する抗細菌剤以外のハロゲン化化合物よりなる抗細菌剤の少なくとも1種を含むことを特徴とする、脱毛治療用の化粧料組成物又は皮膚科用組成物。

IPC (21)：

A61K 7/06 ,  A61K 7/075 ,  A61K 9/06 ,  A61K 9/08 ,  A61K 9/12 ,  A61K 31/085 ADZ ,  A61K 31/095 ,  A61K 31/13 ADB ,  A61K 31/155 ,  A61K 31/165 ,  A61K 31/20 ,  A61K 31/415 ,  A61K 31/44 ADS ,  A61K 33/04 ,  A61K 35/04 ,  A61K 45/08 ,  A61K 31:155 ,  A61K 31:415 ,  A61K 31/44 ,  A61K 31:085 ,  A61K 31:165

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開平3-161425
  
• 養毛料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-268135   Applicant：ポーラ化成工業株式会社