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J-GLOBAL ID:200903043115000248

パターン画像形成装置及びその方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 柏木 明 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993114425
Publication number (International publication number):1994324470
Application date: May. 17, 1993
Publication date: Nov. 25, 1994
Summary:
【要約】【目的】 リソグラフィー技術或いはエッチング技術において、フォトマスクを使用せずにプロセス時間の短縮化や生産コストの低減を図ることが可能なパターン画像形成装置及びその方法を提供する。【構成】 パターン画像の形成される基板8と、この基板8を保持する基板保持手段7と、基板8と相対する位置に配置され液状樹脂を噴射する噴射ヘッド11と、この噴射ヘッド11にパターン画像情報を入力するパターン画像情報入力手段18と、この入力されたパターン画像情報に基づいて噴射ヘッド11から液状樹脂を噴射させ基板8上に樹脂のパターン画像を描くパターン画像形成制御手段とよりなるパターン画像形成装置を設けた。
Claim (excerpt):
パターン画像の形成される基板と、この基板を保持する基板保持手段と、前記基板と相対する位置に配置され液状樹脂を噴射する噴射ヘッドと、この噴射ヘッドにパターン画像情報を入力するパターン画像情報入力手段と、この入力されたパターン画像情報に基づいて前記噴射ヘッドから前記液状樹脂を噴射させ前記基板上に樹脂のパターン画像を描くパターン画像形成制御手段とよりなることを特徴とするパターン画像形成装置。
IPC (2):
G03F 1/00 ,  H01L 21/027
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
  • 特開昭56-113456
  • 特開昭63-102936
  • 特開昭64-003650
Cited by examiner (3)
  • 特開昭56-113456
  • 特開昭63-102936
  • 特開昭64-003650

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