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J-GLOBAL ID：200903043134068279

アニール炉処理ボート

Inventor： 孝治 吉春
Applicant, Patent owner： 三菱電機株式会社
Agent (1)： 青山 葆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997129454
Publication number (International publication number)：1998321540
Application date： May. 20, 1997
Publication date： Dec. 04, 1998
Summary：

【要約】【課題】 化合物半導体ウエハのアニール処理時におけるウエハの局所的な応力集中を防止し、かつウエハの取り扱いが容易なアニール炉処理ボートを提供する。【解決手段】 アニール炉処理ボート上に、ガス流の通路となる開口部を有する支持板を、ガス流に垂直な方向に設け、かかる支持板によりウエハを水平に載置する。

Claim (excerpt)：

複数の化合物半導体ウエハを載置可能な、ガスが供給されるアニール炉に出し入れするためのアニール炉処理ボートであって、ガス流に対向し、上記ウエハの略直径に相当する間隔で並列配置された複数の支持手段を少なくとも備え、上記支持手段は、その間に上記ウエハを側方から出し入れ可能で水平に載置するための支持部と、上記ガス流を上記支持手段間に導入するための開口部を有することを特徴とするアニール炉処理ボート。

IPC (2)：

H01L 21/22 501 ,  H01L 21/324

FI (2)：

H01L 21/22 501 G ,  H01L 21/324 Q