流動層ガス化方法及び装置

Inventor： , , , , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：特許業務法人山田特許事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006349262
Publication number (International publication number)：2008156552
Application date： Dec. 26, 2006
Publication date： Jul. 10, 2008
Summary：

【課題】流動層ガス化炉を、有機物原料が供給されて熱分解反応によりタールを含む熱分解ガスを生成する室と、熱分解反応によって生成した熱分解残渣を導入してガス化ガスを生成する室とに分けることによって、良質のガス化ガスの生成が高められるようにする。【解決手段】流動層ガス化炉2を第1室31と第2室32とで構成し、第1室31に有機物原料Mを供給するようにし、第1室31で有機物原料Mを熱分解反応させて熱分解ガス55を生成し、第1室31で有機物原料Mが熱分解反応して生成した熱分解残渣M’は第2室32の流動層16の内部に導入してガス化反応によりガス化ガス35を生成する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

有機物原料のガス化時に生成したチャーと流動媒体とを流動層燃焼炉に導入して流動させつつチャーを燃焼させて流動媒体を加熱し、流動層燃焼炉からの流動媒体を分離器により分離し、分離した流動媒体を流動層ガス化炉に導入して流動層を形成し、流動層ガス化炉に有機物原料を供給して有機物原料のガス化により生成する生成ガスを取り出すと共に、有機物原料のガス化時に生成したチャーと流動媒体の一部を流動層燃焼炉に循環するようにしている流動層ガス化方法であって、流動層ガス化炉を第1室と第2室とで構成し、第1室に有機物原料を供給して熱分解反応により熱分解ガスを生成し、第1室で有機物原料が熱分解反応して生成した熱分解残渣を前記第2室の流動層の内部に導入してガス化反応によりガス化ガスを生成することを特徴とする流動層ガス化方法。

IPC (1)：

C10J 3/00

FI (1)：

C10J3/00 K

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

流動層ガス化システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-201826 Applicant：石川島播磨重工業株式会社

Cited by examiner (6)

特開昭50-041903
流動層ガス化システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-201826 Applicant：石川島播磨重工業株式会社
特開昭55-160088

Show all

Return to Previous Page