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J-GLOBAL ID：200903043177925469

レジスト塗布装置及びレジスト塗布方法

Inventor： 遠藤 雄太郎 ,  國次 恭宏
Applicant, Patent owner： 三菱電機株式会社
Agent (1)： 早瀬 憲一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992112235
Publication number (International publication number)：1993283330
Application date： Apr. 03, 1992
Publication date： Oct. 29, 1993
Summary：

【要約】【目的】 レジストの膜厚を均一に形成することができるレジスト塗布装置およびレジスト塗布方法を得る。【構成】 平板ウエハホルダ3のウエハ2の外周部に相当する位置にヒータ4あるいは6を設ける。【効果】 ウエハの中心部と外周部との間に温度差を設けることにより、レジストの揮発量を調整してウエハ上に塗布するレジスト膜の膜厚を均一に形成することができ、その後の転写工程で均一なレジストパターンの形成が可能となる。

Claim (excerpt)：

ウエハホルダ上に平板ウエハホルダを介して載置されその上にレジストが滴下されたウエハを回転することにより、該ウエハ上全面にレジスト膜を形成するレジスト塗布装置において、上記平板ウエハホルダの上記ウエハの外周部に相当する位置に加熱手段を有することを特徴とするレジスト塗布装置。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  B05C 11/08 ,  B05D 1/40 ,  G03F 7/16 502