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J-GLOBAL ID：200903043219082947

ドライエツチング装置

Inventor： 糸賀 隆志
Applicant, Patent owner： シヤープ株式会社
Agent (1)： 野河 信太郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991167276
Publication number (International publication number)：1993013370
Application date： Jul. 08, 1991
Publication date： Jan. 22, 1993
Summary：

【要約】【目的】 透明非晶質絶縁基板のドライエッチングにおいて生じる反応生成物の基板裏面への付着を防止して、後段のウェットエッチングにおける基板白濁を防止する。【構成】 ドライエッチング装置内において、絶縁体基板をガスエッチング室内に搬送した際に、基板裏面を保護するように作動する基板保護手段を、搬送手段に付設する。

Claim (excerpt)：

各々減圧手段を備えた圧力調整室及びガスエッチング室と、被エッチング膜を表面形成した透明非晶質絶縁体基板を保持しこれを上記圧力調整室からガスエッチング室へ移送する内蔵搬送手段を有し、上記搬送手段が、上記透明非晶質絶縁体基板を裏面から支える治具と、この治具からスライド状に延出して当該裏面全体を被覆保護しうる基板保護手段を備えてなるドライエッチング装置。

IPC (3)：

H01L 21/302 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/68