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J-GLOBAL ID:200903043249132060

ホスホリルコリン類似基含有重合体の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 酒井 一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999167878
Publication number (International publication number):2000355609
Application date: Jun. 15, 1999
Publication date: Dec. 26, 2000
Summary:
【要約】【課題】溶媒、残留モノマー、開始剤分解物等の不純物を効率的に除去でき、高純度のホスホリルコリン類似基含有重合体を高収率で得ることができるホスホリルコリン類似基含有重合体の製造方法を提供すること。【解決手段】ホスホリルコリン類似基含有単量体を含む重合性組成物を重合させた後、二酸化炭素の超臨界流体、若しくは二酸化炭素と、水酸基を有する化合物との混合物の超臨界流体等の超臨界流体によりホスホリルコリン類似基含有重合体を精製することを特徴とするホスホリルコリン類似基含有重合体の製造方法。
Claim (excerpt):
ホスホリルコリン類似基含有単量体を含む重合性組成物を重合させた後、超臨界流体によりホスホリルコリン類似基含有重合体を精製することを特徴とするホスホリルコリン類似基含有重合体の製造方法。
IPC (4):
C08F 6/10 ,  C08F 30/02 ,  C08F265/06 ,  C08F293/00
FI (4):
C08F 6/10 ,  C08F 30/02 ,  C08F265/06 ,  C08F293/00
F-Term (21):
4J026AA48 ,  4J026AC26 ,  4J026AC27 ,  4J026BA27 ,  4J026DA04 ,  4J026GA01 ,  4J026HD11 ,  4J100AL03Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL41P ,  4J100BA32P ,  4J100BA65P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100FA03 ,  4J100GA17 ,  4J100GA22 ,  4J100GB01 ,  4J100GC01 ,  4J100GC02 ,  4J100GC35
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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