レジスト下層膜材料ならびにパターン形成方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：好宮幹夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003150350
Publication number (International publication number)：2004354554
Application date： May. 28, 2003
Publication date： Dec. 16, 2004
Summary：

【課題】多層レジストプロセス用、特には2層レジストプロセス用のレジスト下層膜材料であって、特に短波長の露光に対して、優れた反射防止膜として機能し、すなわち透明性が高く、最適なn値、k値を有し、しかも基板加工におけるエッチング耐性に優れたレジスト下層膜材料、及びこれを用いてリソグラフィーにより基板にパターンを形成する方法を提供する。【解決手段】リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、少なくとも、下記一般式(1)で示される繰り返し単位を有する重合体を含むものであることを特徴とするレジスト下層膜材料。【化24】【選択図】なし

Claim (excerpt)：

リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、少なくとも、下記一般式(1)で示される繰り返し単位を有する重合体を含むものであることを特徴とするレジスト下層膜材料。

IPC (4)：

G03F7/11 , G03F7/26 , G03F7/40 , H01L21/027

FI (4)：

G03F7/11 503 , G03F7/26 511 , G03F7/40 521 , H01L21/30 573

F-Term (24)：

2H025AA09 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BG00 , 2H025DA34 , 2H025DA40 , 2H025FA03 , 2H025FA17 , 2H025FA41 , 2H096AA25 , 2H096BA09 , 2H096CA05 , 2H096CA06 , 2H096EA04 , 2H096GA08 , 2H096HA23 , 2H096JA04 , 2H096KA06 , 2H096KA19 , 5F046NA01 , 5F046NA17

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

アルカリ現像型感光性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-233945 Applicant：大日本インキ化学工業株式会社
樹脂の製造方法および樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-020666 Applicant：日本石油株式会社
感光性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-082839 Applicant：三井化学株式会社

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