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J-GLOBAL ID：200903043268717087

表面解析装置

Inventor： 林 正和 ,  石田 文彦
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992002107
Publication number (International publication number)：1993187862
Application date： Jan. 09, 1992
Publication date： Jul. 27, 1993
Summary：

【要約】【目的】本発明は、レバーに働く原子間力によるレバーの2次元の変位量を検出して試料の表面解析を行う。【構成】試料(10)の上方にレバー(11)が配置されると、これら試料(10)とレバー(11)との間に原子間力が働き、レバー(11)は2次元に変位する。このレバー(11)の2次元変位量が変位検出手段(12)における例えば光位置検出器(12c) により検出され、この検出された2次元の変位量から試料(10)に対するレバー(11)の摩擦係数が解析手段(13)により求められる。

Claim (excerpt)：

試料に対し、この試料との間で原子間力が働く間隔に配置されたレバーと、このレバーの2次元の変位量を検出する変位検出手段と、この変位検出手段により検出された2次元の変位量から少なくとも前記試料に対する前記レバーの摩擦係数を求める解析手段とを具備したことを特徴とする表面解析装置。

IPC (5)：

G01B 21/30 ,  G01B 5/28 ,  G01N 19/02 ,  H01J 37/28 ,  G01B 11/30 102