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J-GLOBAL ID:200903043278792311

半導体基板用プラズマ表面処理装置におけるラジアルラインスロットアンテナの構造

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 石井 暁夫 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999089283
Publication number (International publication number):2000286238
Application date: Mar. 30, 1999
Publication date: Oct. 13, 2000
Summary:
【要約】【課題】 半導体基板の表面処理に際して、その表面との間にマイクロ波によるプラズマを発生させるラジアルラインスロットアンテナにおいて、そのアンテナガイド2内の誘電体板6の下面側に配設したスロット板7における熱膨張による歪み変形を阻止して、表面処理の均一化を図る。【解決手段】 前記誘電体板6を、窒化アルミナセラミック製にするか、或いは、スロット板7に対する強制冷却用の通路14,17を設ける。
Claim (excerpt):
下面に偏平状の凹所を形成した金属製のアンテナガイドと、その凹所内に装填した円盤型の誘電体板と、この誘電体板の下面側に外周縁部を前記アンテナガイドの下面に取付けるように配設した金属製のスロット板とから成り、前記アンテナガイドに、マイクロ波を挿入する導波管を接続して成るラジアルラインスロットアンテナにおいて、前記誘電体板を、窒化アルミニウム(AlN)セラミック製にしたことを特徴とする半導体基板用プラズマ表面処理装置におけるラジアルラインスロットアンテナの構造。
IPC (2):
H01L 21/3065 ,  H05H 1/46
FI (3):
H01L 21/302 B ,  H05H 1/46 B ,  H05H 1/46 M
F-Term (7):
5F004AA01 ,  5F004BA20 ,  5F004BB11 ,  5F004BB18 ,  5F004BB28 ,  5F004BB29 ,  5F004BC08

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