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J-GLOBAL ID：200903043294154244
イオン源およびそれを用いたイオンビーム照射装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
山本 惠二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999031375
Publication number (International publication number)：2000231885
Application date： Feb. 09, 1999
Publication date： Aug. 22, 2000
Summary：
【要約】【課題】 大面積のイオンビーム引き出しが可能であり、しかもイオン源の大型化を緩和することができ、更に引出し電極系の加工が容易であるイオン源を提供する。【解決手段】 このイオン源2aは、プラズマ6からイオンビーム16を引き出す引出し電極系10を備えている。この引出し電極系10を構成する各電極11〜13は、平面形状が矩形をしており、かつ電極板を下に凸のかまぼこ状に曲げた形状をしている。
Claim (excerpt)：
多数のイオン引出し孔をそれぞれ有する1枚以上の電極を有していてプラズマからイオンビームを引き出す引出し電極系を備えるイオン源において、前記引出し電極系を構成する各電極は、平面形状が矩形をしており、かつ電極板を下に凸のかまぼこ状に曲げた形状をしていることを特徴とするイオン源。
IPC (2)：
FI (2)：
F-Term (2)：
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