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J-GLOBAL ID：200903043297158836

処理方法及び塗布現像処理システム

Inventor： 飽本 正巳
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社
Agent (1)： 金本 哲男 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996252316
Publication number (International publication number)：1998079343
Application date： Sep. 03, 1996
Publication date： Mar. 24, 1998
Summary：

【要約】【課題】 被処理基板に対してレジスト塗布・現像処理を行う際に、所定の処理が終了した被処理基板を、清浄な状態で収納体に収納する。ケミカルフィルタの使用量を抑える。【解決手段】 レジスト液など有機成分を扱う処理装置が組み込まれている処理装置群G1、G2とは異なった空間に、洗浄処理装置71を配置する。ウエハWを収納しているカセットCにアクセスするウエハW搬送体21は、洗浄処理装置71に対してウエハWを搬入出する副ウエハW搬送手段61との間で、受け渡し部51を介して、ウエハWの授受が自在である。

Claim (excerpt)：

被処理基板を収納した収納体が載置される載置部と、この載置部上の収納体に対して被処理基板を搬出入自在な搬送機構と、この搬送機構との間で直接又は間接的に被処理基板を授受する搬送手段と、少なくとも当該被処理基板に対してレジスト液を塗布するレジスト液処理装置と、現像処理する現像処理装置と、これらの各処理装置での所定の処理が終了した後に被処理基板を加熱する加熱処理装置とを備え、前記搬送手段はこれら各処理装置に対して被処理基板を搬入出自在となるように構成された塗布現像処理システムを用い、前記被処理基板にこれら各処理装置によって所定の処理を行う方法において、前記所定の処理終了後、前記載置部上の収納体に処理済みの前記被処理基板を搬入して収納する前に、当該処理済みの被処理基板に対して洗浄処理を行うことを特徴とする、処理方法。

IPC (5)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/30 ,  G03F 7/40 501 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/68

FI (6)：

H01L 21/30 569 D ,  G03F 7/30 ,  G03F 7/40 501 ,  H01L 21/304 341 C ,  H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 563