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J-GLOBAL ID:200903043307218468
光磁気記録媒体およびその製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993200053
Publication number (International publication number):1995037286
Application date: Jul. 19, 1993
Publication date: Feb. 07, 1995
Summary:
【要約】【目的】 耐久性、耐食性に優れた光磁気記録媒体を提供すること。【構成】 非磁性透明基体上に順に少なくと下部保護層、強磁性金属薄膜からなる磁気記録層、反射層を形成し、その上部に炭素を主成分とした炭素含有率50原子%以上の上部保護層を設けることにより強磁性金属薄膜からなる磁気記録層の腐食に対し十分な耐久性を持つ光磁気記録媒体が得られることを特徴とする。
Claim (excerpt):
非磁性透明基体上に順に少なくとも下部保護層、磁気記録層、反射層、上部保護層からなる光磁気記録媒体において上部保護層が炭素を主成分とし、炭素の元素組成が50原子%以上であることを特徴とする光磁気記録媒体。
IPC (2):
G11B 11/10 521
, G11B 11/10 541
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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特開昭62-195744
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特開平4-219647
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特開平4-177632
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特開平4-137239
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特開平4-355228
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