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J-GLOBAL ID:200903043310282517

現像装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 深見 久郎 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992313465
Publication number (International publication number):1994163392
Application date: Nov. 24, 1992
Publication date: Jun. 10, 1994
Summary:
【要約】【目的】 化学増幅型レジストを用い、露光後現像処理に移行するまでの経時時間に依存せず、常に安定した高精度のレジストパターンを得ることができる現像装置を提供することである。【構成】 本発明に従う現像装置では、カセット2内に収納された露光済みウエハ1を現像処理に移行させるまでの間保管する保管庫8がカセットステーション3と一体的に形成され、その保管庫8内の温度および雰囲気がエアコンディショナ9によって調整されるように構成される。
Claim (excerpt):
基板上に形成されたレジスト膜を現像する現像装置であって、前記レジスト膜を現像処理に移行させるまでの間、前記基板を収納する保管室を備え、前記保管室内の温度および雰囲気が調整されることを特徴とする現像装置。
IPC (2):
H01L 21/027 ,  G03F 7/30 502

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