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J-GLOBAL ID:200903043317676332
欠陥検査装置及び欠陥検査方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
大岩 増雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995037442
Publication number (International publication number):1996233747
Application date: Feb. 24, 1995
Publication date: Sep. 13, 1996
Summary:
【要約】【目的】 ウェハ基板上に形成されたパターンの異常、欠陥の存在などを検知する際に、複数の手段によって正確な欠陥の情報を得られる欠陥検査装置とその検査方法を得る。【構成】 投光器によって照射された光は多機能ミラーに取り込まれ、この多機能ミラーの第一の機能によって入射光は多機能ミラーを透過し、被検査物に垂直に照射される。また、多機能ミラーの第二の機能によって、入射光は所定位置に向かって反射し、反射板等を介して反射光を被検査物に対して斜め方向から照射する。このように異なった2方向から光を照射することによって正反射像及び散乱像をそれぞれ同一の装置において検出することができる。これら正反射像及び散乱像から得られる情報を合成し、精度の高い欠陥検査を行うことが可能となる。
Claim (excerpt):
被検査物に対して光を投光する投光器部、上記投光器部によって投光された光を透過させ、被検査物の所定位置に透過光を照射し、被検査物上で反射した反射像を受け、一定方向に反射させる第一の機能と、上記投光器部によって投光された光を反射させ、被検査物の所定位置に反射光を照射し、被検査物上で反射した反射像を受け、一定方向に反射させる第二の機能を持つ多機能ミラー、上記多機能ミラーによって一定方向に反射された反射像を検知するイメージセンサ、上記イメージセンサにおいて検知した反射像を情報として取り込んで計算処理を行う計算機部、上記計算機部の情報を記憶するメモリー部を備えたことを特徴とする欠陥検査装置。
IPC (3):
G01N 21/88
, G01B 11/30
, H01L 21/66
FI (4):
G01N 21/88 E
, G01B 11/30 D
, H01L 21/66 J
, H01L 21/66 S
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