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J-GLOBAL ID：200903043318410174

無電解ニッケルめっき液

Inventor： 大和 茂 ,  田邉 靖博
Applicant, Patent owner： 奥野製薬工業株式会社
Agent (7)： 三枝 英二 ,  掛樋 悠路 ,  小原 健志 ,  斎藤 健治 ,  藤井 淳 ,  関 仁士 ,  中野 睦子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003319947
Publication number (International publication number)：2005082883
Application date： Sep. 11, 2003
Publication date： Mar. 31, 2005
Summary：

【課題】浴安定性及びパターン析出性が良好であり、かつ微小パッド部における析出性にも優れた無電解ニッケルめっき液を提供する。【解決手段】(1)水溶性ニッケル塩、(2)還元剤、(3)錯化剤、及び(4)銅、クロム、マンガン、鉄、コバルト及びスズからなる群から選ばれた少なくとも一種を金属成分として含む錯化合物、を含有することを特徴とする無電解ニッケルめっき液。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

(1)水溶性ニッケル塩、(2)還元剤、(3)錯化剤、及び(4)銅、クロム、マンガン、鉄、コバルト及びスズからなる群から選ばれた少なくとも一種を金属成分として含む錯化合物、を含有することを特徴とする無電解ニッケルめっき液。

IPC (2)：

C23C18/34 ,  H05K3/18

FI (2)：

C23C18/34 ,  H05K3/18 F

F-Term (25)：

4K022AA02 ,  4K022AA18 ,  4K022AA31 ,  4K022AA42 ,  4K022BA06 ,  4K022BA07 ,  4K022BA08 ,  4K022BA09 ,  4K022BA11 ,  4K022BA14 ,  4K022BA21 ,  4K022BA32 ,  4K022BA35 ,  4K022DA01 ,  4K022DB01 ,  4K022DB02 ,  4K022DB03 ,  4K022DB04 ,  4K022DB05 ,  4K022DB07 ,  4K022DB08 ,  5E343BB44 ,  5E343CC78 ,  5E343DD33 ,  5E343GG08

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 無電解ニッケルめっき液
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-374640   Applicant：日鉱メタルプレーティング株式会社
• 特開昭57-206690
  

Cited by examiner (2)

• 無電解ニッケルめっき液
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-374640   Applicant：日鉱メタルプレーティング株式会社
• 特開昭57-206690