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J-GLOBAL ID:200903043318495625

遺伝子類導入方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (8): 特許業務法人アルガ特許事務所 ,  有賀 三幸 ,  高野 登志雄 ,  中嶋 俊夫 ,  浅野 康隆 ,  的場 ひろみ ,  村田 正樹 ,  山本 博人
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003408473
Publication number (International publication number):2005168312
Application date: Dec. 08, 2003
Publication date: Jun. 30, 2005
Summary:
【課題】 標的細胞への遺伝子の効率的な導入法の提供。【解決手段】 標的細胞含有組成物又は生体に(A)遺伝子類とカチオン性物質とからなる正に荷電した複合体及び(B)ガス含有微小粒子を添加又は投与後、低周波超音波を照射することを特徴とする標的細胞への遺伝子類導入方法。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
標的細胞含有組成物又は生体に、(A)遺伝子類とカチオン性物質とからなる正に荷電した複合体及び(B)ガス含有微小粒子を添加又は投与後、低周波超音波を照射することを特徴とする標的細胞への遺伝子類導入方法。
IPC (1):
C12N15/09
FI (1):
C12N15/00 A
F-Term (5):
4B024AA20 ,  4B024BA80 ,  4B024CA02 ,  4B024GA11 ,  4B024HA20
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
Article cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • Current Pharmaceutical Biotechnology, vol.4 (2003 Apr.) p.109-122
  • Current Pharmaceutical Biotechnology, vol.4 (2003 Apr.) p.109-122

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