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J-GLOBAL ID:200903043319965757
熱処理装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
大井 正彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991229698
Publication number (International publication number):1993047691
Application date: Aug. 16, 1991
Publication date: Feb. 26, 1993
Summary:
【要約】 (修正有)【目的】 面状の被処理体の全面を均一な温度で加熱処理することができる熱処理装置を提供することにある。【構成】 面状の被処理体1の処理面11に対向するよう配置された面状発熱源2と、前記面状の被処理体の処理面とは反対側の裏面12に対向する位置に配置された、当該面状の被処理体の外周縁を超えて伸びる大きさの蓄熱部30とを備えてなることを特徴とする。
Claim (excerpt):
面状の被処理体の処理面に対向するよう配置された面状発熱源と、前記面状の被処理体の処理面とは反対側の裏面に対向する位置に配置された、当該面状の被処理体の外周縁を超えて伸びる大きさの蓄熱部とを備えてなることを特徴とする熱処理装置。
IPC (5):
H01L 21/22
, H01L 21/205
, H01L 21/285
, H01L 21/31
, H01L 21/324
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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特開昭63-232422
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特開昭58-164222
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特開昭63-058926
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特開昭58-007818
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特開平1-272112
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