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J-GLOBAL ID：200903043324110140

酸化物薄膜の製造方法

Inventor： 金児 紘征 ,  泰松 斉
Applicant, Patent owner： 三菱マテリアル株式会社 ,  金児 紘征
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993281454
Publication number (International publication number)：1995138793
Application date： Nov. 10, 1993
Publication date： May. 30, 1995
Summary：

【要約】【目的】 酸化物薄膜の製造方法の提供【構成】 金属塩の電解液と、該電解液に対して溶解性のない非導電性液体によって液相界面を形成し、該液相界面に前記金属の酸化物薄膜をアノード酸化によって析出させることを特徴とする酸化物薄膜の製造方法

Claim (excerpt)：

金属塩の電解液と、該電解液に対して溶解性のない非導電性液体によって液相界面を形成し、該液相界面に該金属塩の酸化物薄膜をアノード酸化によって析出させることを特徴とする酸化物薄膜の製造方法。

IPC (2)：

C25D 9/06 ,  C25D 1/04