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J-GLOBAL ID:200903043336205928

陰極アーク放電を用いた薄膜蒸着装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 志賀 正武 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997343165
Publication number (International publication number):1998280135
Application date: Dec. 12, 1997
Publication date: Oct. 20, 1998
Summary:
【要約】【課題】 薄膜の蒸着効率を上昇させる陰極アーク放電を用いた薄膜蒸着装置を提供する。【解決手段】 陰極アーク放電により蒸着物質の荷電粒子が発生されるアーク蒸発部100と、荷電粒子をアーク蒸発部100から基板1に導く屈曲部を有するプラズマダクト200と、荷電粒子がアーク蒸発部100から基板1に向かうように磁場を発生させる磁場発生器310,330と、プラズマダクト200の屈曲部の凸部側に設けられて磁力線がプラズマダクト200に沿って分布されるように磁場発生器310,330の磁場と干渉する磁場を発生させる反射磁場源350とを含むことを特徴とする。
Claim (excerpt):
陰極アーク放電により蒸着物質の荷電粒子が発生されるアーク蒸発部と、前記荷電粒子を前記アーク蒸発部から基板に導く、屈曲部を有するプラズマダクトと、前記荷電粒子が前記アーク蒸発部から前記基板に向かうように磁場を発生させる磁場発生器と、前記プラズマダクトの屈曲部の凸部側に設けられて磁力線が該プラズマダクトに沿って分布されるように前記磁場発生器の磁場と干渉する磁場を発生させる反射磁場源とを含む陰極アーク放電を用いた薄膜蒸着装置。
IPC (2):
C23C 14/32 ,  H01L 21/203
FI (2):
C23C 14/32 A ,  H01L 21/203 Z
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)

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